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更新时间: 2025-11-13
程然教授是浙江大学信息与电子工程学院微纳电子研究所的讲师,她在新型IV族(Si, SiGe, Ge)MOS器件领域有着深入的研究,并在学术领域取得了一定的成就。以下是她的一些专业成就和贡献:
程然教授本科及博士毕业于新加坡国立大学,并在浙江大学信息与电子工程学院微纳电子研究所进行博士后研究。
她主要从事模拟、工艺和测试研究,特别是在应力工程集成、Si和Ge基半导体器件的制备,以及亚纳秒超快速测试表征方面。
程然教授在包括Applied Physics Letters和IEEE Transactions on Electron Devices等顶级学术期刊上发表了近40篇论文,并在多个顶级会议如IEDM和VLSI Symposia上发表大会报告。
她制备了世界上第一支具有应变层的锗纳米线晶体管,这项成果极大地提高了Ge MOS晶体管的性能,并在半导体工程领域得到了报道。
程然教授在2017年作为报告人,代表浙江大学在国际可靠性物理大会(IEEE Reliability Physics Symposium)上作专题报告,这是中国大陆在该会议上仅有的两篇报告之一。
综上所述,程然教授在微纳电子领域有着丰富的研究经验和突出的学术贡献,她的工作得到了国际同行的认可,并在学术界具有一定的影响力。
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